EDI反滲透純水設備是針對于純水設計的水處理設備，其核心組成部分主要有反滲透膜和EDI模塊。EDI反滲透純水設備運行過程中需要定時清洗設備，而且需按照技術規范來進行操作。今天小編就為大家介紹一下EDI反滲透純水設備的清洗方法有哪些？
EDI反滲透純水設備清洗方法：
EDI反滲透純水設備清洗主要分為兩段：RO反滲透膜以及EDI模塊。
RO反滲透膜清洗：
首先咱們介紹RO反滲透膜清洗，目前RO反滲透膜清洗主要有物理清洗和化學清洗。
物理清洗：物理清洗是通過低壓力、高流速的進水沖刷膜元件，將短時間內在膜表面附著的污染物和堆積物清洗掉的方式。
清洗要點清洗時的要點是高流速，低壓力和清洗頻率
（1）清洗的流速
裝置運行時，附著性高的粒子狀污染物逐漸堆積在膜表面。如果清洗時的流速與運行時的流速相等或更低，則很難把這些污染物從膜元件中清洗出來。因此，清洗時應使用比正常運行時更高的流速。
（2）清洗壓力
正常高壓運轉時，壓力直接垂直作用膜面，使進水透過膜面得到產水，同時污染物也被壓向膜面。所以在清洗時，如果采用同樣的高壓，則污染物被積壓在膜表面，清洗的效果就會降低。清洗時盡可能的通過低壓，高流速的方式，增加水平方向的剪斷力把污染物沖岀膜元件。
（3）清洗頻率條件允許的情況下，建議經常對系統進行清洗。增加清洗的次數比延長1次清洗的時間更為有效般清洗的頻率推薦為1天1次以上。根據具體的情況，顧客可以自行規定清洗的頻率。
化學清洗：主要是通過化學藥劑對濾膜進行清洗，所以要選擇適宜的化學藥劑。
選擇適宜的化學清洗藥劑及合理的清洗方案涉及許多因素。首先要與設備制造商、R0膜元件廠商R0特用化學藥劑及服務人員取得聯系。確定主要的污染物，選擇合適的化學淸洗藥劑。有時針對某種特殊的污染物或污染狀況，要使用RO藥劑制造商的專用化學淸洗藥劑，并且在應用時，要遵循藥劑供應商提供的產品性能及使用說明。特殊情況下可針對具體情況，從反滲透裝置取岀已發生污染的單支膜元件進行測試和清洗試驗，以確定合適的化學藥劑和清洗方案。
EDI模塊清洗：
什么情況下需要對EDI模塊進行清洗操作呢？
下述情況出現兩條以上時，應該對edi模塊進行再生清洗：
在進水溫度、流量不變的情況下，進水側與產水側的壓差比原始數據升高30%。在進水溫度、流量不變的情況下，濃水進水側與濃水排水側的壓差比原始數據升高30%。
在進水溫度、流量及電導率不變的情況下，產水水質（電阻率）明顯下降35%。
在進水溫度、流量不變的情況下，濃水排水流量下降35%。
膜塊的工作電壓超過初始調試時電壓的20%。
不管膜塊在何種電氣運行模式（穩流或穩壓）下，都要注意觀測他們的變化趨勢。
EDI模塊清洗操作步驟：
1.濃水室結垢清洗；
2.記錄清洗前所有數據；
3.分離EDI膜塊與其他設備的連接管路；
4.連接清洗裝置（見清洗流程圖），使清洗泵通過濃水管路進入EDI膜塊再回到清洗水箱，濃水進、出水閥開啟，關閉EDI淡水進水閥和產水閥；
5.在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液；
6.啟動清洗泵，調節濃水進水閥，以規定的流量循環清洗（酸洗步驟）。（參見附表）停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝；
7.向清洗水箱連續注入清水（RO產水），啟動清洗泵連續清洗（沖洗步驟）；
8.打開EDI進水閥和產水閥，同時對兩個水室進行沖洗；
9.檢測濃水出水側的水質，直至與進水側電導率相近；
10.各個閥門，恢復原始各設計流量數據；
11.恢復EDI各個管路與其他系統的連接；
12.開啟PLC控制柜電源，向EDI膜塊送電，轉入正常運行，并作好初次運行的數據記錄。
所以EDI反滲透純水設備的使用與清洗如同保持人體的健康一樣，要從平時做起。合理的清洗工藝也是很重要的因素，同樣的反滲透膜清洗劑不同的清洗參數、順序、用量、操作條件，效果差異很大，往往導致同樣的清洗劑由于操作工藝的不到位導致截然不同的結果，從而錯失了解決問題的最佳途徑。
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