隨著現在產品應用越來越豐富，在追求功能的同時更加的注重產品外觀和實用性，電鍍噴涂行業近幾年越來越火爆，在設備表面進行涂裝防腐蝕性涂層不僅可以讓設備的外觀提升，還能防腐蝕。但是電鍍涂裝對用水有著嚴苛的標準，電鍍涂裝純水必須要達到15兆歐以上的超純水才行。
關于電鍍涂裝超純水設備
為了更好的保護我們的設備避免被腐蝕或者是生銹，我們往往會選擇在設備的表面進行涂裝一層具有防腐蝕或者是抗氧化的東西，同時為了增加我們的設備的光亮的程度我們還需要利用純水進行清洗。今天純凈水設備就給大家介紹一種設備，該設備可以進行節能生產以及設備的結構簡單方便。
電鍍涂裝用純水設備工序有哪些？
原水→原水箱→原水泵→多介質過濾器（石英砂過濾器）→活性炭過濾器→軟水處理器（添加阻垢劑裝置）→精密過濾器→高壓泵→反滲透（RO）裝置→純凈水箱→EDI模塊（拋光樹脂）→純水箱→用水點。
電鍍涂裝超純水設備產水標準：
電鍍涂裝超純水設備的電阻率可以到達15兆以上的超純水，在進行鍍件漂洗時需要的是電阻率15兆以下的純水節約可生產的成本。該設備是采用的最為傳統的陰陽混床樹脂交換，純水的電阻率不是最高的雙級反滲透設備，設備中的原水為泵提供水的壓力值，在經過可以去除膠狀物和其它可見雜質的多介質過濾器之后通過可以吸附化學等的活性炭過濾器，最后在經過軟水器軟化水質和精密過濾器的高精過濾。
電鍍涂裝超純水設備優點有哪些？
電鍍涂裝超純水設備的出水的阻電率高達18兆，可以用于任何的需要用到純水的行業中。該設備和傳統的混床設備相比較的話具有較明顯的優勢。設備在制取純水的過程中可以很好的避免產生廢液，為企業節省成本。
電鍍涂裝純水設備工作原理
EDI工藝從水中去除不想要的離子，依靠在淡水室的樹脂吸附離子，然后將它們遷移到濃水室中。
離子交換反應在模塊的淡水室中進行，在那里陰離子交換樹脂釋放出氫氧根離子（OH-）而從溶解鹽（如氯化物、Cl-）中交換陰離子。同樣，陽離子交換樹脂釋放出氫離子（H+）而從溶解鹽中(如鈉、Na+)交換陽離子。
從水流中去除離子的吸附步驟，在模塊中的停留是有限的（近似10~15秒）。當被吸附時，離子僅僅被外在的直流電場驅動遷移。
一個直流（DC）電場通過放置在組件一端的陽極（+）和陰極（-）實現。電壓驅動這些被吸收的離子沿著樹脂球的表面移動，然后穿過離子選擇性膜進入濃水室。直流電場也裂解水分子形成氫氧根離子和氫離子：
H2O=OH-+H+
在圖1中，離子交換膜由垂直線表示，這些垂直線根據離子穿透性的不同標注成不同的幾項。因為這些離子選擇性膜不允許水穿過，所以他們對水流來說是個屏障。
帶負電的陰離子（如OH-、Cl-）被吸引到陽極（+）,并且被陰極排斥。這些離子穿過陰離子選擇性膜，進入相鄰的濃水室，而不會穿過相鄰的陽離子選擇性膜，并滯留在濃水室，并隨濃水流出濃水室。在淡水室中帶正電的陽離子（如H+、Na+）被吸引到陰極（-）,并且被陽極排斥。這些離子穿過陽離子選擇性膜進入臨近的濃水室，他們在那里被臨近的陰離子選擇性膜阻擋，并隨濃水流出濃水室。
在濃水室中，仍然維持電中性。從兩個方向輸送過來的離子彼此相互中和。從電源流過來的電流跟移動離子的數目成比例。水裂解離子（H+和OH-）和現存的離子都被遷移并且被加到所要求的電流之中。
當水流流過兩種不同類型的腔體時，淡水室中的離子就會完全被去除，同時被收集到鄰近的濃水流之中，這就可以從模塊中帶走被去除了的離子。
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